Multi-Beam Sputter-Deposition zur homogenen Beschichtung von Freiformen

Kurzbeschreibung:
Die Erfindung besteht darin, dass man mehrere Ionenquellen mit unterschiedlichen Strahlprofilen bei der Ionenstrahl-Sputterdeposition so einsetzt, dass sich deren Sekundärplumes (die vom Targetmaterial ausgehen) so überlagern, dass die resultierende Massendichteverteilung des Beschichtungsmaterial über der Freiform eine homogene konforme Beschichtung gewährleistet und die Effekte der gekrümmten Oberflächen ausgleicht.

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